光敏剂11886-13-1

光敏剂11886-13-1是一种广泛用于半导体材料中的有机光敏剂。它的分子式为C21H18N4O2，分子量为362.4g/mol。在半导体工业中，光敏剂11886-13-1通常用于制造微电子设备和集成电路中的图案化过程。

这种光敏剂具有较高的感光度和稳定性，可以在短时间内对紫外线进行反应，形成有机化合物的交联和断裂。这使得它在微电子成像和微制造过程中具有广泛的应用。同时，它也可以作为光学降解材料，用于光学图案化和光学脱模。

在制造半导体设备时，光敏剂11886-13-1通常通过溶液旋涂的方式施加在硅片表面上，然后通过紫外线曝光、显影和蚀刻等步骤进行加工。这种加工方式可以实现微米级别的图案化和微细加工，从而生产出高精度的半导体器件。

总的来说，光敏剂11886-13-1在半导体工业中具有重要的应用价值，可以为微电子和集成电路制造过程提供有效的图案化和加工手段。